芯联集成获得发明专利授权:“一种衬底上的布局结构及其制备方法”
2025年06月21日 | 浏览量:78503

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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示芯联集成(688469)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种衬底上的布局结构及其制备方法”,专利申请号为CN202211195626.3,授权日为2025年6月20日。
专利摘要:本发明提供了一种衬底上的布局结构及其制备方法。该布局结构中,将用于晶体管器件的栅极材料同时形成在监控区内以用作第一垫层,抬高监控区的台面高度,使得监控区内的待检测膜层可以形成在较高的位置,进而可减小待检测膜层上方的凹槽深度,使得该凹槽容易被材料填满而不会形成内凹口,进而避免在内凹口内残留污染物而难以被去除。
今年以来芯联集成新获得专利授权28个,较去年同期减少了36.36%。结合公司2024年年报财务数据,2024年公司在研发方面投入了18.42亿元,同比增20.45%。
通过天眼查大数据分析,芯联集成电路制造股份有限公司共对外投资了18家企业,参与招投标项目1694次;财产线索方面有商标信息16条,专利信息709条,著作权信息3条;此外企业还拥有行政许可40个。
数据来源:天眼查APP
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本文来源:资讯纵横网
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